純水機設(shè)備工藝流程：

　　1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點

　　2: 預(yù)處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點

　　3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點

　　4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點

　　純水機設(shè)備技術(shù)：

　　反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。

　　反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率＜10-20μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率＜5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率高達18兆歐姆.厘米。 反滲透膜老化或受污染后，產(chǎn)水質(zhì)量會下降.

　　純水機設(shè)備優(yōu)點：

　　①不需加熱、沒有相變；

　　②能耗少；過程連續(xù)穩(wěn)定；

　　③設(shè)備體積小、操作簡單，適應(yīng)性強；

　　④對環(huán)境不產(chǎn)生污染。

　　純水機設(shè)備應(yīng)用：

　　電子工業(yè)用水　　　 集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水

　　制藥行業(yè)用水　　　 制藥行業(yè)用水 　大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等

　　化工行業(yè)工藝用水　 化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等

　　電力行業(yè)　　　　　 鍋爐補給水 　火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統(tǒng)等

　　食品工業(yè)用水　　　 飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等

　　超聲波清洗用水　　 電腦配件、特種材料、精密機械等要求高清潔度的超聲波清洗線

　　電鍍行業(yè)用水　　　 清洗工件用水,槽液用水

　　其它工藝用水　　　 汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學(xué)品等